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反滲透純凈水設備的反滲透膜元件中常見污染物及其去除方法
| 作者：guanli 日期：2018/12/18 12:06:46 |
反滲透純凈水設備的反滲透膜元件中常見污染物及其去除方法：
1、碳酸鈣垢
當阻垢劑添加系統失效或酸化系統出現時，碳酸鈣可能沉積，因此應盡快檢測碳酸鈣垢的沉淀，以防止生長晶體對膜表面造成的損害。注意：清洗液的PH值不小于2.0。
檢查使用氨水來改良PH值，硫酸或鹽酸來降低PH值。
2、硫酸鈣垢
清洗液是除去反滲透純凈水設備的反滲透膜元件表面硫酸鈣垢的比較好的方法。
3、金屬氧化垢
通過使用上述除去碳酸鈣垢的方法，可以容易地除去沉積的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。
4、硅垢
對于不與金屬或有機物共存的二氧化硅垢，只能通過水處理清洗方法除去。具體方法請可以與我公司聯系。
5、清洗液
清洗反滲透純凈水設備的反滲透膜元件時，建議使用清洗液進行水處理。在清洗前對污染物進行分析是比較重要的。詳細分析和比較分析結果。應記錄每次清洗過程中獲得的清洗方法和結果，以便為在供水條件下尋找比較好的清洗方法。
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